高分子の自己組織化現象を活用したナノパターニング基本技術を開発
用語解説
リソグラフィ技術
半導体や液晶パネルの基板の作成などに用いられる、回路パターンなどを形成する装置。また、その過程。
フォトリソグラフィ法
紫外光などの電磁波を用いて微細なパターンを基板表面に焼き付けて形成する、トップダウン的アプローチと呼ばれる手法。一方、自己組織化プロセスはボトムアップ的と称される。
ケミカルレジストレーション法
米国ウィスコンシン大学のNealey教授らにより開発された、基板の表面に特定の分子だけが集まりやすいよう化学的なマークを設け、このマーク上に微細なパターンを秩序よく形成させる手法。
特定の分子
高分子ブロック共重合体。高分子ブロック共重合体は分子を構成する分子鎖が自発的に集合してミクロドメインと称される微細な構造を形成する。
電子線直接描画法
マスクパターンを用いずレジストを電子線により直接描画するリソグラフィ法。