NEDO三次元光デバイス高効率製造技術 第10回 光集積ラボラトリ－公開セミナ－
「NEDO光集積ラボラトリー」では、将来の先端分野や融合分野の技術を支える人材を育成することを目的として、NEDO光集積ラボラトリー公開セミナーを開催してきました。昨年度に引き続き、さまざまな分野の専門家を招いて、光、ナノテク材料、環境やエネルギー等の最近の話題をわかりやすく解説していただきます。
今回は第10回目として「分析・測定」を取り上げました。以下の内容で開催しますので、ふるってご参加ください。
日時
平成22年5月27日（木曜日）13時30分～16時30分
場所
JSTイノベーションプラザ京都 セミナー室 http://www.kyoto.jst-plaza.jp/access/index.html
参加対象者
企業大学等の技術者・研究開発者（専門分野は不問） 40名程度 先着順
申込方法
以下の内容を事務局までご連絡願います。（ sugi＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）： 杉渕）
1. 氏名 2. 所属、役職 3. 連絡先（電話番号、E-mail アドレス)
参加費
無料
プログラム
| 13時30分～13時35分 | 挨拶 平尾 一之 教授 京都大学工学研究科 |
| 13時35分～14時25分 | 講師 長澤 忠広 主幹研究員 日本電子株式会社 SM事業ユニット SMアプリケーショングループ 演題 「FIB（集束イオンビーム）の 基礎と最新装置の紹介」 概要 集束イオンビーム装置は、1.観る、2.成膜する、3.加工するの3機能を備えている。特に観る機能（SIM像）は一見、SEM像と似た像が得られるが、大きな違いがあることなど、興味深いFIBの基本的な性質を紹介した後に、最新装置である複合イオンビーム装置の応用について紹介する。 |
| 14時25分～15時15分 | 講師 森 憲久 研究員 日本電子株式会社 SA事業ユニット SAアプリケーショングループ 演題 「EPMAの基礎と応用」 概要 近年、レアメタルなどの資源問題を引き金にさまざまな分野で微量成分を含む新材料の開発が進んでいる。これに伴い微量成分や軽元素の局所分析を特徴とするEPMA分析もさまざまな分野で利用されている。本講演では、EPMAの動作原理とSEM+EDSとの違いなどについて述べ、いくつかの応用例を紹介する。 |
| ＜ 休憩10分間 ＞ | |
| 15時25分～16時30分 | 講師 本間 秀和 副センター長 株式会社KRI 材料解析研究センター 演題 「マイクロ・ナノ構造物のイメージング・マッピング分析評価 事例の紹介」 概要 高機能化・微小化が進む現在の材料開発において、マイクロもしくはナノレベルで化学状態や元素の分布を調べるのがますます重要になってきている。今回、一例としてFT-IR、ラマン、FE-EPMAの機器を駆使して評価した事例を挙げてその有用性について紹介する。 |
問い合わせ先
NEDO光集積ラボラトリー事務局（担当：亀谷）
TEL： 075-383-3093
FAX： 075-383-3029
E-mail： kametani＊saci.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
ホームページ： http://www.nedo.go.jp/activities/portal/gaiyou/p06046/kyotocourse2006.html