京都・先端ナノテクポケット講習会は、ナノスケールの物質合成、計測・分析、微細加工等について、最新の技術動向とその応用、さらには装置の操作方法を含めての実践的講習を行い、それぞれのナノテクノロジー研究・開発に活用していただくことを目的として、京都・先端ナノテク総合支援ネットワークが主催するものです。
第5回にあたる今回の講習会では、フォトリソグラフィ関連装置を用いて、MicroTASにおいて必須のマイクロ流路の製作・使用法をご案内します。
一日目午前の講演では、MicroTASの背景についてご説明するとともに、実習に直結したフォトリソグラフィ技術、シリコーンゴムであるPDMSを用いたモールディング技術、また流体デバイスを用いた応用について紹介します。
一日目午後から二日目にかけての実習では、実際にデバイス製作を体験していただけるよう少人数のグループに分かれて、スタッフのサポートのもと作業を進めていただきます。
本講習会が皆様方のナノテク分野の研究・開発のさらなる発展につながることを関係者一同心より願っております。
日時
10月21日(水曜日) 10時00分～16時00分 午前講演、午後実習
10月22日(木曜日) 10時00分～16時00分 午前・午後実習
開催場所
京都大学 VBL2階セミナールーム（講演）、VBLおよび物理系校舎（実習）
プログラム
21日（水曜日） 講演、実習一日目
10時00分～10時05分 挨拶 京都大学 小寺 秀俊
10時05分～12時00分 講演 京都大学 小寺 秀俊
12時00分～13時00分 休憩
13時00分～16時00分 実習（フォトリソグラフィ） 京都大学 大岡 正孝他
22日（木曜日）実習二日目
10時00分～12時00分 実習（PDMSモールディング） 京都大学 大岡 正孝他
12時00分～13時00分 休憩
13時00分～16時00分 実習（マイクロ流路の使用） 京都大学 大岡 正孝他
募集人数
講演30名程度
実習10名程度 （希望者多数の場合は事務局で調整させていただきます)
参加費
無料（会場までの交通費は各自負担）
応募資格
フォトリソグラフィ技術、MicroTASに関心のある方
特に、所属・資格等は問いません。
申し込み方法
以下のURLよりお申し込みください。
一日目午後と二日目の実習を希望される場合は該当欄にチェックを入れてください。
申し込み締め切り
10月2日(金曜日)
ホームページ
http://nsn.kyoto-u.ac.jp/apply/
お問い合わせ先
〒606-8501 京都市左京区吉田本町
京都・先端ナノテク総合支援ネットワーク 第5回ポケット講習会受付
Tel： 075-753-5696、Fax： 075-753-5690
E-mail： nsn1021＊nsn.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）
主催：京都大学 京都・先端ナノテク総合支援ネットワーク