本講習会では、ナノテクノロジー最前線に位置づけられる高精度電子線描画技術について、装置概要ならびに代表的産業展開の現状を伝えるとともに、研究開発への応用例を紹介しながら、具体的な利用方法をご案内するために企画された講習会です。
電子線描画の代表的適用例として、フォトマスク描画と極微細パターン描画があります。それらに対応する装置構造である、可変整形ビームとポイントビームの違いや特徴を、まず日本電子株式会社からご講演いただきます。次に、産業応用が最も大規模に進んでいるフォトマスク描画技術の課題や今後の展望について、代表的企業である凸版印刷株式会社からご講演いただきます。さらに、京都大学の高精度ポイントビーム電子線描画装置の応用例を利用者からご紹介いただくとともに、その装置を実際に利用する場合のガイダンスを、ナノ支援担当者からご説明致します。本講習会が皆様方のナノテク分野の研究・開発のさらなる発展につながることを関係者一同心より願っております。
開催日時
2009年2月26日（木曜日） 13時～17時
2009年2月27日（金曜日） 午前 / 午後（希望者に対する実習)
プログラム
26日（木曜日） 講演、装置見学
13時00分-13時05分 挨拶 京都大学 山田 啓文
13時05分-13時15分 全体プログラム紹介 京都大学 小山 浩
13時15分-14時00分 「電子線描画装置の基礎」 日本電子株式会社 舩越 亮
14時00分-15時00分 「半導体フォトマスク描画技術の課題と将来像」 凸版印刷株式会社 森本 博明
15時00分-15時15分 休憩
15時15分-15時45分 「ナノテンプレートパターンを用いた粒子アセンブル技術」 京都大学 菅野 公二
15時45分-16時15分 「電子線リソグラフィーを利用したSiナノワイヤMOSFETの作製」 京都大学 吉岡 裕典
16時15分-16時30分 装置利用ガイダンス 京都大学 大村 英治
16時30分-17時00分 装置見学
27日（金曜日） 装置実習（受講者限定）
- 使用装置：JBX6300FS
- 装置操作実習(一部実演)：
- ・描画データ作成
- ・装置キャリブレーション
- ・レジスト塗布、現像他
10時00分-12時00分 実習(第一班)
14時00分-16時00分 実習(第二班)
開催場所
京都大学 桂キャンパス ローム館 セミナー室（講演） 108号室（見学、実習）
募集人数
30名程度 （実習は午前、午後に分け、それぞれ若干名を予定します。希望者多数の場合は事務局で調整させていただきます。）
応募資格
微細パターン形成に関心のある方。特に、所属・資格等は問いません。
参加費
無料（会場までの交通費は各自負担）
参加申込
以下のURLよりお申込み下さい。二日目の実習を希望される場合は該当欄にチェックを入れてください。
http://nsn.kyoto-u.ac.jp/apply/
お問合せ先
京都・ナノテク総合支援ネットワーク
第4回ポケット講習会受付
TEL： 075-383-2141 FAX： 075-383-2140
E-mail： nsn0902＊nsn.kyoto-u.ac.jp （＊を@に変えてください）