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第6回 京都・先端ナノテクポケット講習会 「フォトリソグラフィとPDMSモールディングによるマイクロ流路製作」

 京都・先端ナノテクポケット講習会は、ナノテクノロジー分野での研究支援・人材育成活動の一環として企業、大学、その他研究機関の研究者・技術者の方を対象に、ナノスケールの物質合成、計測・分析、微細加工等について、最新の技術動向とその応用、さらには装置の操作方法を含めての実践的講習を行い、それぞれのナノテクノロジー研究・開発に活用していただくことを目的として、京都・先端ナノテク総合支援ネットワークが主催するものです。

 第6回にあたる今回のナノテクポケット講習会では、フォトリソグラフィ関連装置を用いて、Micro Total Analysis Systems(MicroTAS)において必須のマイクロ流路の製作、使用法をご案内します。マイクロ・ナノテクノロジーが医療、生化学などの分野においてどのように応用されているか、いわゆるMicroTASの背景について、京都大学 小寺秀俊 教授がご説明します。また、講義の後半では、実習に直結したフォトリソグラフィ技術、シリコーンゴムであるPDMSを用いたモールディング技術、また流体デバイスを用いた応用について紹介し、午後から二日目にかけて実習を行います。実習では、実際にデバイス製作を体験していただけるよう少人数のグループに分かれて、スタッフのサポートのもと作業を進めていただきます。

 昨年度第5回にて大変ご好評をいただきましたので、実習につきましては同内容とさせていただきます。以下のとおり開催をしますので、皆様ふるってご参加のほど、よろしくお願いします。本講習会が皆様方のナノテク分野の研究・開発のさらなる発展につながることを関係者一同心より願っております。

開催日時

2010年11月25日(木曜日) 10時00分~16時00分
2010年11月26日(金曜日) 10時00分~16時00分

プログラム

11月25日(木曜日)講演、実習一日目

10時00分~10時05分 挨拶 京都大学 小寺 秀俊
10時05分~12時00分 講演 京都大学 小寺 秀俊
12時00分~13時00分 休憩
13時00分~16時00分 実習(フォトリソグラフィ) 京都大学 大岡 正孝 他

11月26日(金曜日)実習二日目

10時00分~12時00分 実習(PDMSモールディング) 京都大学 大岡 正孝 他
12時00分~13時00分 休憩
13時00分~16時00分 実習(マイクロ流路の使用) 京都大学 大岡 正孝 他

開催場所

京都大学VBL2Fセミナールーム(講義)、VBLおよび物理系校舎(実習)

募集人数

講演30名程度
実習10名程度 (希望者多数の場合は事務局で調整させていただきます。昨年度と同じ内容です)

応募資格

フォトリソグラフィ技術、MicroTASに関心のある方。特に、所属・資格等は問いません。

参加費

無料

参加申し込み

お名前(フリガナ)・ご住所・所属先・業務(分野)・実習希望の有無・メールアドレスをご記入の上、以下のメールアドレスにお申込みください。

E-mail: nsn1125*nsn.kyoto-u.ac.jp (*を@に変えてください)

問い合わせ先

京都・ナノテク総合支援ネットワーク(京都大学)
第6回ポケット講習会受付
TEL: 075-753-3562、FAX: 075-753-5291
E-mail: nsn1125*nsn.kyoto-u.ac.jp (*を@に変えてください)

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