利用可能設備

 以下の設備は、学外の方も利用が可能です。ご希望の方は、各設備の問い合わせ先に連絡をしていただき、所定の手続きを行ってください。

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設備一覧

  1. 多次元生体イメージングシステム
  2. 蛍光活性化細胞選別システム
  3. 共焦点レーザー顕微鏡
  4. 多光子レーザー走査型顕微鏡システム
  5. 米国アフィメトリクス社製GeneChip解析基本システム
  6. 電界放出形電子顕微鏡
  7. 電顕共同利用ステーション
  8. モノクロメータ搭載低加速原子分解能分析電子顕微鏡
  9. 透過型電子顕微鏡(TEM(JEM-2010))
  10. 複合ビーム材料照射装置(DuET)
  11. 電界放出型電子プローブアナライザー(FE-EPMA(JXA-8500FX))
  12. 電界放出型オージェマイクロプローブ(FE-AES(JAMP-9500FV))
  13. 複合ビーム加工観察装置(FIB(JIB-4500))
  14. 極低加速電圧電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM(ULTRA55))
  15. 電界放出型電子プローブマイクロアナライザ用超軟X線発光分析装置
  16. 集束イオンビーム加工観察装置(FIB(FB2200))
  17. 分散並列型強震応答実験装置
  18. 安全性診断のための強震動応答実験装置長周期耐震実験システム
  19. 磁気共鳴断層撮影システム
  20. 超高精細高精度電子ビーム描画装置
  21. レーザー直接描画装置
  22. マスクレス露光装置
  23. 露光装置(ステッパー)
  24. 多元スパッタ装置
  25. 多元スパッタ装置
  26. プラズマCVD装置
  27. 超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
  28. 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
  29. 磁気中性線放電ドライエッチング装置
  30. 基板接合装置
  31. 分析走査電子顕微鏡
  32. レーザアニーリング装置
  33. 深堀りドライエッチング装置
  34. 深堀りドライエッチング装置
  35. シリコン酸化膜犠牲層ドライエッチングシステム
  36. 集束イオンビーム/走査電子顕微鏡
  37. レーザダイシング装置
  38. クリーンルーム
  39. クリーンルーム
  40. 大面積超高精度電子線描画装置

※ 平成27年3月31日現在