トピックス 2005年12月14日
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実用化のための育成研究 採択課題詳細

研究課題名
機能性材料を指向した有機ヨウ素化合物の資源循環型電解製造プロセスの開発
代表研究者
吉田 潤一 教授(工学研究科
共同研究機関
日宝化学株式会社
研究開始年度
18
研究期間
3年
研究概要
本研究は、国内で自給できる数少ない希少な天然資源であるヨウ素を使用する有機ヨウ素化合物の製造にマイクロ電解技術を導入し、更にヨウ素の回収循環システムに組み入れることを目的とする。
有機ヨウ素化合物は電子材料や医農薬の重要な合成中間体として広く使用されている。
従来の有機ヨウ素化合物の製造方法は、1厳しい反応条件が必要、2副原料や酸化剤を大量に使用する、3収率が悪い、4位置選択性が悪い、5精製工程が必要、6廃棄物が多量に発生する、7
コストが高い、等の問題があり、有効な方法とはいえない。
本研究で、1)マイクロ電解法によりヨウ素活性種を生成する技術(生成場技術)、2)マイクロフロー法によりヨウ素活性種と反応基質とを反応させる技術(反応場技術)、3)生成場技術と反応場技術とを連結する技術(集積技術)、を開発することにより、従来の諸問題を解決し、クリーンで安価かつ高純度に有機ヨウ素化合物を製造する方法の実用化を目指す。


研究課題名
次世代半導体デバイスに向けた低エネルギーイオンビームの無発散走行照射技術の開発
代表研究者
石川 順三 教授(工学研究科)
共同研究機関
日新イオン機器株式会社
研究開始年度
18
研究期間
3年
研究概要
次世代半導体デバイスの極浅微細接合形成のためには低エネルギーイオン注入(0.2〜0.5 keV)が不可欠である。しかし低エネルギーではイオンビーム自身が持つ正電荷によるイオンビームの発散が顕著となりイオンビームの平行度の確保が困難である。また従来の電荷中和技術においてはガス粒子の混入や金属不純物の混入を避けることができない。本研究では独自に開発したオールシリコン製電界放出型電子線源による低エネルギー幅電子束を用いて正電荷量を中和することにより、クリーンな空間において半導体基板への平行性ビーム照射と電荷蓄積阻止を実現する。